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目录
第1章 绪 论
1.1 前言
1.2 半导体光催化机理
1.3 影响光催化性能的主要因素
1.4 提高半导体光催化活性的途径
1.5 光催化技术的应用
1.6 表面等离子体光催化材料
1.7 铋系可见光光催化剂
1.8 论文的选题背景
1.9 论文的研究内容
第2章 Ag/AgCl/Bi2MoO6光催化剂的表征及光催化降解研究
2.1 实验部分
2.2 结果与讨论
2.3 本章小结
第3章 Ag/AgCl/Bi2MoO6光催化活性提高的机理研究
3.1 实验部分
3.2 活性自由基抑制实验结果分析
3.3 光催化反应机理研究
3.4 小结
第4章 Ag/AgCl/Bi2O2CO3光催化剂的表征及光催化降解研究
4.1 实验部分
4.2 结果与讨论
4.3 本章小结
第5章 Ag/AgCl/Bi2O2CO3光催化活性提高的机理研究
5.1 实验部分
5.2 活性自由基抑制实验结果分析
5.3 光催化反应机理研究
5.4 小结
结 论 与 展 望
参考文献
附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录
致谢