声明
摘要
第一章 绪论
1.1 课题研究背景
1.2 热辐射的特性
1.2.1 黑体辐射
1.2.2 太阳辐射
1.2.3 实际物质的辐射特性
1.3 光谱选择性吸收原理
1.3.1 理想的选择性吸收表面
1.3.2 太阳辐射吸收率和发射率
1.4 太阳能应用
1.4.1 太阳能利用现状及发展展望
1.5 实验研究目标及内容
1.5.1 研究目标
1.5.2 研究内容
第二章 高效光谱选择性吸收涂层的设计
2.1 光谱选择性吸收材料
2.2 中高温光谱选择性吸收表面
2.3 常用选择性吸收涂层机理
2.3.1 本征吸收涂层
2.3.2 金属陶瓷复合涂层
2.3.3 光干涉型涂层
2.3.4 表面微不平基质型涂层
2.3.5 半导体-金属反串组合吸收
2.4 光谱选择性吸收涂层的制备方法
2.5 电化学制备技术
2.5.1 复合电镀机理
2.5.2 纳米复合电镀技术
2.5.3 复合电镀层的基本性能要求
2.6 选择性涂层结构的设计
2.6.1 吸收层的设计
2.6.2 红外反射底层的设计
2.6.3 涂层厚度的设计
第三章 制备工艺流程
3.1 实验器材及原料
3.2 技术路线方案
3.2 电镀前处理工艺
3.3.1 磨光
3.3.2 超声波清洗
3.3.3 除油
3.3.4 浸蚀
3.3.5 抛光
3.4 复合涂层的制备
3.4.1 红外反射层的制备
3.4.2 吸收层的制备
3.5 涂层的特性表征分析
3.5.1 涂层光学性能分析
3.5.2 涂层形貌分析(SEM)
3.5.3 涂层表面粗糙度分析(AFM)
3.5.4 涂层表面元素分析(EDS)
3.5.5 涂层物相定性分析(XRD)
第四章 实验结果与分析
4.1 镀铜层的形貌分析
4.2 黑镍-氧化铝涂层的光谱性能分析
4.2.1 镀液温度的影响
4.2.2 电镀时间对涂层性能的影响
4.2.3 电流密度对涂层性能的影响
4.2.4 涂层结构对涂层光学性能的影响
4.3 涂层的形貌分析
4.4 黑镍-氧化铝涂层的断面形貌分析
4.5 涂层AFM分析
4.6 涂层表面能谱分析EDS
4.7 涂层XRD衍射分析
第五章 结论与展望
5.1 结论分析
5.2 展望
参考文献
致谢