声明
摘要
第1章 绪论
1.1 课题研究的目的和意义
1.2 单分散SiO2纳微颗粒
1.2.1 单分散SiO2微球的制备
1.2.2 SiO2溶胶的结构和特性
1.2.3 工艺条件的影响
1.3 SiO2纳米粒子结构薄膜
1.3.1 无序SiO2膜制备
1.3.2 有序SiO2膜制备
1.3.3 SiO2纳米结构薄膜的应用
1.4 薄膜的激光损伤
1.4.1 薄膜材料的本征吸收
1.4.2 杂质、缺陷吸收
1.4.3 光学薄膜的激光损伤阈值的影响因素
1.5 激光刻蚀亚波长条纹
1.5.1 激光刻蚀亚波长条纹的实验进展
1.5.2 激光刻蚀亚波长条纹的理论进展
1.5.3 亚波长条纹的应用
1.6 本论文主要工作
第2章 实验及表征
2.1 实验原料及设备
2.2 二氧化硅薄膜的制备
2.2.1 溶胶的配制
2.2.2 玻璃片清洗
2.2.3 浸渍提拉镀膜
2.2.4 薄膜的干燥及热处理
2.2.5 溶胶的离心分离
2.2.6 自组装有序膜
2.3 薄膜的纳秒激光损伤实验
2.4 薄膜性能表征
2.4.1 溶胶pH的测定
2.4.2 粘度测定
2.4.3 SiO2溶胶的综合热分析
2.4.5 扫描电子显微镜(SEM)表征
第3章 实验结果及分析
3.1 溶胶热分析
3.2 工艺条件对提拉膜性能的影响
3.2.1 粘度的影响
3.2.2 pH的影响
3.2.3 水含量(N=H2O/TEOS)的影响
3.2.4 催化剂含量(R=NH3/TEOS)的影响
3.2.5 有机化学添加剂的影响
3.2.6 干燥及热处理工艺的影响
3.3 工艺条件对自组装膜的影响
3.3.1 单分散溶液浓度的影响
3.3.2 温度的影响
3.4 薄膜激光损伤及亚波长条纹的研究
3.4.1 颗粒尺寸与NH3含量关系
3.4.2 不同颗粒尺寸膜的阈值
3.4.3 亚波长条纹的研究
3.5 本章小结
第4章 结论
参考文献
致谢