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目录
1 绪论
1.1 引言
1.2 磁记录技术的发展历程
1.3 SmCo5垂直磁化膜的研究进展
1.4 本文的研究内容和结构安排
2 薄膜样品的制备及分析测试
2.1引言
2.2 磁控溅射制备样品原理与方法
2.3 样品的制备过程
2.4 薄膜样品的磁性能测试
2.5 薄膜样品的微观分析
2.6 本章小结
3.Sm(Co,Cu)5磁性能的第一性原理计算
3.1 引言
3.2 Cu掺杂对SmCo5交换关联常数与居里温度的影响
3.3 本章小结
4. Cu掺杂SmCo5薄膜的实验研究
4.1引言
4.2 溅射功率对 Sm(Co,Cu)5薄膜成分与磁性能的影响
4.3 Cu掺杂量对SmCo5薄膜磁性能的影响
4.4 Cu掺杂量对SmCo5薄膜微结构的影响
4.5本章小结
5. Al掺杂SmCo5薄膜的实验研究
5.1 引言
5.2 底层材料的优化
5.3 磁性层厚度对SmCo5薄膜磁性能的影响
5.4 Al掺杂量对SmCo5薄膜磁性能的影响
5.5 Al掺杂量对SmCo5薄膜微结构的影响
5.6 本章小结
6. 结 论
致谢
参考文献
附录1 攻读硕士学位期间发表的论文