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高科技园区非正式交流空间庭院式环境设计研究

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1绪论

1.1研究背景

1.2 研究目的与意义

1.3相关理论与概念解析

1.4相关文献综述

1.5研究对象与范围

1.6研究方法与技术路线

1.7研究框架

2高科技园区非正式交流空间的环境分析

2.1高科技园区环境发展概述

2.2高科技园区研发型办公环境概述

2.3研发型办公环境中非正式交流空间的特征

2.4高科技园区非正式交流空间案例调研及分析

2.5高科技园区非正式交流空间存在问题

2.6使用人群分析

2.7本章小结

3庭院在高科技园区非正式交流空间环境的介入

3.1庭院环境的发展与演变

3.2庭院环境的空间特征介入

3.3庭院环境的功能表达介入

3.4庭院环境的要素构成介入

3.5庭院环境的文化承载介入

3.6庭院环境的现代发展趋势

3.7本章小结

4庭院与高科技园区非正式交流空间的契合

4.1庭院的聚合性为空间环境创造场所

4.2庭院的渗透性为空间环境创造便捷

4.3庭院的自然性为空间环境营造生态

4.4庭院的意境化为空间环境点明主题

4.5本章小结

5高科技园区非正式交流空间的庭院式设计

5.1设计原则

5.2设计要素

5.3设计策略

5.4本章小结

6实例研究——武汉研创中心

6.1场地分析

6.2项目概况

6.3武汉研创中心的庭院环境艺术设计

6.4本章小结

7结语

7.1研究成果与创新点

7.2研究局限与展望

致谢

参考文献

附录1 关于武汉未来科技城交流环境的调查问卷

附录2 攻读硕士学位期间发表论文及获奖成果

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摘要

高科技园区由于其有效地推动了高新技术的商品化、产业化、国际化而在世界各国广泛设立。高品质的园区环境有益于园区从业人员的信息交流,缓解其工作压力并激发其创新灵感。目前我国高科技园区虽多具有较优越的自然环境但利用率较低,人员交流场所较少。本文通过案例研究分析了这些现象及其原因,并提出了相应的设计理念以及应用手法,目的是促进高科技园区非正式交流空间中的人员交流,构建高效的活动交流场所。
  文章以高科技园区研发型办公环境为研究对象,首先对高科技园区非正式交流环境的概念、设计背景、相关理论、发展状况和研究现状进行了全面细致的分析与阐述;第二,对高科技园区非正式交流空间的环境要素进行了分析,并通过实地调研提出了现阶段高科技园区交流环境现存问题和使用者的需求;第三,详细阐述了庭院式设计的特点以及发展趋势,以及庭院式设计理念在高科技园区非正式交流空间的应用手法;第四,提出在高科技园区非正式交流空间采用庭院式设计需遵循的“场所性、整体性、趣味性和生态性”四个原则,以及高科技园区庭院的设计要素,并从表达方式和处理手法两方面对高科技园区非正式交流空间的庭院式环境提出设计策略;第五,基于本文提出的设计原则、设计要素与设计策略,将其应用于“武汉研创中心”实际案例进行分析,验证了高科技园区非正式交流空间中采用庭院式设计的合理性和其促进人员交流的有益性以及不足之处。
  本文通过引入庭院式设计思路并提出其应用于高科技园区非正式交流空间的设计原则、设计要素与设计策略,为我国高科技园区的非正式交流环境的设计工作提供了有益借鉴。

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