摘要
第1章 绪论
1.1 形状记忆合金的发展与应用
1.1.1 形状记忆合金的发展
1.1.2 形状记忆合金的应用
1.1.3 形状记忆合金的性能与特点
1.2 TiNiCu形状记忆合金薄膜的发展与应用
1.2.1 TiNiCu形状记忆合金薄膜的制备方法
1.2.2 溅射工艺参数对TiNiCu薄膜的影响
1.3 TiNiCu形状记忆合金薄膜的相变行为及力学性能
1.3.1 TiNiCu形状记忆合金薄膜的相变过程
1.3.2 TiNiCu合金薄膜的力学性能
1.4 选题意义和研究目的
1.4.1 选题意义
1.4.2 研究目的及论文的主要内容
第2章 实验材料及实验方法
2.1 薄膜制备
2.1.1 基片的选择与预处理
2.1.2 靶材设计及准备
2.1.3 薄膜制备的工艺流程
2.1.4 薄膜的晶化退火工艺
2.2 薄膜分析测试方法
2.2.1 扫描电子显微镜
2.2.2 原子力显微镜
2.2.3 X射线衍射分析
2.2.4 DSC差式扫描量热仪
2.3 本章小结
第3章 靶材成分调整和薄膜溅射工艺参数的优化
3.1 引言
3.2 样品制备及实验过程
3.3 靶材成分的调整及实验结果分析
3.4 TiNiCu薄膜溅射工艺参数的优化
3.4.1 溅射压强的优化
3.4.2 溅射功率的优化
3.4.3 本底真空度
3.4.4 靶材与基片的距离
3.4.5 Ar气流量
3.5 优化溅射参数后TiNiCu薄膜表面和截面形态分析
3.4 本章小结
第4章 实验结果分析
4.1 引言
4.2 实验结果分析
4.2.1 薄膜的XRD分析
4.2.2 薄膜的DSC测试分析
4.3 薄膜驱动特性分析
4.3.1 实验过程
4.3.2 结果分析
4.5 本章小结
结论
参考文献
致谢
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