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摘 要
Abstract
目 录
第1章 绪论
1.1 引言
1.2 紫外探测的基本原理
1.2.1 紫外光探测技术的物理机制
1.2.2 紫外探测器的结构
1.2.3 紫外探测器的主要物理参数
1.3 紫外探测器与宽禁带半导体
1.4 金刚石紫外探测器的介绍
1.4.1 金刚石3-D紫外探测器的概念
1.4.2 金刚石3-D紫外探测器制备方法
1.4.3 金刚石紫外探测器的研究现状
1.6 金刚石的刻蚀方法及其研究
1.6.1 H/O等离子体金刚石刻蚀
1.6.2 金刚石金属催化刻蚀
1.7 本文研究内容
第2章 金刚石的刻蚀加工与研究方法介绍
2.1 刻蚀使用的材料
2.2 研究过程中的制备表征与测量方法
2.2.1 MPCVD装置简介
2.2.2 真空蒸镀
2.2.3 磁控溅射
2.2.4 X射线光电子能谱（XPS）
2.2.5 激光共聚焦扫描显微镜（LSCM）
2.2.6 半导体参数测试仪
2.3 本章小结
第3章 金刚石的金属催化等离子体刻蚀研究
3.1 金属催化金刚石刻蚀的研究
3.1.1 不同金属对金刚石的催化研究
3.1.2 不同沉积方法对工艺的影响
3.1.3 金属薄膜沉积厚度对刻蚀的影响
3.1.4 不同刻蚀气压对刻蚀的影响
3.1.5 不同刻蚀温度对刻蚀的影响
3.1.6 金刚石不同晶面取向对刻蚀的影响
3.2 刻蚀机理的探究
3.2.1 刻蚀物质成分的分析
3.2.2 颗粒分析
3.2.3 形貌机理分析
3.3 本章小结
第4章 金刚石3-D紫外探测器的性能测试
4.1 金刚石3-D紫外探测器的制备
4.2 金刚石3-D紫外探测器的性能测试
4.2.1 暗电流的测量
4.2.2 响应度与量子效率的测量
4.2.3 可探测度的测量
4.2.4 探测器的综合响应对比
4.3 金刚石3-D探测器的I-V曲线
4.4 本章小结
结 论
参考文献
攻读硕士学位期间发表的学术论文
哈尔滨工业大学学位论文原创性声明和使用权限
致 谢
