摘要
第一章 绪论
1.1 半导体材料的发展
1.2 第一性原理计算研究材料性质的优势
1.3 缺陷黄铜矿结构半导体AⅡB2ⅢC4Ⅵ的研究背景及研究意义
第二章 理论基础
2.1 物理基础
2.1.1 能带理论
2.1.2 半导体光学性质
2.2 第一性原理计算方法
2.2.1 Born-Oppenheimer绝热近似
2.2.2 密度泛函理论
第三章 缺陷黄铜矿结构半导体AⅡB2ⅢC4Ⅵ的电子结构与光学性质
3.1 引言
3.2 计算方法及计算参数的设置
3.3 晶格常数
3.4 能带结构和态密度
3.5 光学性质
3.5.1 介电函数和折射率
3.5.2 吸收系数
3.5.3 反射系数和损失函数
第四章 总结与展望
参考文献
攻读硕士学位期间的研究成果
致谢
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