摘要
第一章 绪论
1.1 稀磁半导体概述
1.1.1 稀磁半导体的研究进展
1.1.2 稀磁半导体概念
1.1.3 稀磁半导体中铁磁性的来源
1.1.4 稀磁半导体的物理特性
1.2 TiO2的结构与基本性质
1.3 TiO2基稀磁半导体的研究现状
1.4 本课题的研究意义和研究内容
1.4.1 研究意义
1.4.2 研究内容
第二章 样品的制备方法与表征手段
2.1 样品的制备方法
2.1.1 脉冲激光沉积(PLD)
2.1.2 阳极氧化法(oxidation method)
2.1.3 磁控溅射(magnetron sputtering)
2.1.4 分子束外延(MBE)
2.1.5 离子注入(ion implantation)
2.1.6 固相反应(solid reaction)
2.1.9 放电等离子烧结(Spark Plasma Sintering)
2.2 样品的表征
2.2.1 X射线衍射(XRD)
2.2.2 X射线光电子能谱(XPS)
2.2.3 光致发光光谱(PL)
2.2.4 紫外可见分光光度计(UV-vis)
2.2.5 场发射扫描电镜(SEM)
2.2.6 振动样品磁强计(VSM)
第三章 Au掺杂TiO2薄膜稀磁特性的研究
3.1 引言
3.2 样品制备
3.3 实验结果分析
3.3.1 X射线衍射(XRD)
3.3.2 紫外可见分光光度计(UV-vis)
3.3.3 X射线光电子能谱(XPS)
3.3.4 X光致发光光谱(PL)
3.3.5 X射振动样品磁强计(VSM)
3.4 计算结果分析
3.5 本章小结
第四章 Fe/C掺杂TiO2薄膜稀磁特性的研究
4.1 引言
4.2 实验过程
4.3 实验结果分析
4.3.1 X射线衍射(XRD)
4.3.2 X射线光电子能谱(XPS)
4.3.3 紫外可见分光光度计(UV-vis)
4.3.4 光致发光光谱(PL)
4.3.5 振动样品磁强计(VSM)
4.4 计算结果分析
4.4.1 态密度图
4.5 本章小结
第五章 Mo/N掺杂TiO2薄膜稀磁特性的研究
5.1 引言
5.2 实验过程
5.3 实验结果分析
5.3.1 X射线衍射(XRD)
5.3.2 场发射扫描电镜(SEM)
5.3.3 X射线光电子能谱(XPS)
5.3.4 光致发光光谱(PL)
5.3.5 振动样品磁强计(VSM)
5.4 本章小结
参考文献
致谢
攻读硕士学位期间的主要工作
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