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声明
第一章绪论
§1.1绪言
§1.2一维纳米材料制备技术的最新进展及发展趋势
§1.2.1热蒸发法的机理
§1.2.2影响制备一维纳米材料的因素
§1.3一维纳米半导体材料和金属接触
§1.3.1肖特基势垒
§1.3.2欧姆接触
§1.5本论文研究的意义、思路及主要内容
§1.5.1论文研究的意义和思路
§1.5.2本论文研究的主要内容
参考文献:
第二章三氧化钨纳米线的制备与结构表征
§2.1背景
§2.1.1气-固(V-S)相合成法的研究进展
§2.2实验部分
§2.2.1实验试剂
§2.2.2测试仪器
§2.2.3试验方法
§2.2.4三氧化钨纳米线制备条件的摸索
§2.2.5六方晶相的三氧化钨纳米线结构的表征
§2.2.6三氧化钨纳米线的合成机理
参考文献:
第三章半导体纳米线的电场组装和电子输运性质的研究
§3.1单根WO3纳米线的组装
§3.1.1背景
§3.1.2组装机理
§3.1.3实验方法和过程
§3.1.4结果分析
§3.2 WO3半导体纳米线电子输运性质的研究
§3.2.1背景
§3.2.2单根WO3纳米线的光电输运性质研究
§3.3本章小结
参考文献:
第四章WO3/TiO2核壳纳米线制备的摸索
§4.1 WO3/TiO2核壳纳米线制备的摸索
§4.1.1背景介绍
§4.1.2试验部分
§4.1.3样品的表征与分析
硕士期间发表和已完成的工作
致谢