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§1引言
§2递归构造
§3直接构造
§4u=6的情况
§5主要结果
参考文献
致谢
王建永;
河北师范大学;
图设计; 图填充; 图覆盖; 带洞拉丁方; 带洞图设计; 不完全图设计;
机译:关于两个六边形图族的优美性
机译:不是覆盖范围较小的覆盖图组成的覆盖图
机译:包装设计对两个功能膜的影响在环境温度下储存的图1和图1中的质量
机译:悬垂K1和C4的连接图的填充和覆盖设计的不存在。
机译:关于k树相关图和覆盖图的独立多项式。
机译:超分子六边形图和超分子五角形图的自组装
机译:图3:(a)受约束的秩序(帽;资源和围栏是约束因子),其具有表示响应变量和两个轴之间的简单的Spearman相关性的载体覆盖(附录S2)。沿着轴1的群落分离在很大程度上与资源处理对群落结构的影响有关。因此,载体与轴1平行的程度反映了将该分类群的密度的负(向左)或正(右侧)相关的程度反映了碎屑。每个矢量的长度表示与序列的两个轴的响应变量的关节相关性,表示所示的圆圈的圆圈具有凸轴1的矛盾系数,≥50或≤-.50。为了防止图形上的杂乱,没有绘制向量的箭头头。缩写的键在图1中。(b)受约束的偏移(帽),其覆盖层表示多个相关系数(类似于单偏移部分相关系数)。
机译:用于Ws-133B(mINUTEmaN)的电气电子系统电子干扰细节测试要求图a的评估测试程序14100,电缆组件,电源,电气图a 14101,充电器,电池pp-4068 / U图a 14102,充电器,电池pp-4069 / U图a 14103,开关板,配电sB-2686 / U图a 14106,电动机发电机pU-605 / G
机译:原理图设计设备,原理图设计程序和电路图设计方法
机译:设计图管理器中的管理程序和设计图管理系统,以及设计图管理
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