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第1章绪论
1.1 AC PDP中的MgO保护膜
1.2 MgO保护膜的制备方法
1.2.1电子束蒸发法(Electron-beam evaporation)
1.2.2脉冲激光沉积(Pulse Laser Deposition)
1.2.3磁控溅射(Magnetron sputtering)
1.2.4金属有机物化学气相沉积(MOCVD)
1.2.5其他制备方法
1.3 MgO薄膜的二次电子发射性能研究进展
1.3.1二次电子发射系数测量装置的研究进展
1.3.2提高MgO薄膜二次电子发射性能的研究进展
1.4研究目的、选题意义
参考文献
第2章材料制备方法
2.1阴极电弧离子镀技术
2.1.1阴极弧斑的研究进展
2.1.2阴极电弧等离子体特性及其输运
2.1.3大颗粒(Macroparticles)的产生及其去除
2.2实验装置
2.2.1阴极电弧离子镀装置
2.2.2磁过滤阴极电弧离子镀装置
参考文献
第3章MgO薄膜的制备及其结构表征
3.1材料的表征方法
3.2真空阴极电弧离子镀制备MgO薄膜
3.2.1样品制备条件
3.2.2样品的表征结果
3.3磁过滤阴极电弧离子镀制备MgO薄膜
3.3.1材料制备
3.3.2材料的结构表征
参考文献
第4章MgO薄膜的二次电子发射性能
4.1低能离子激发二次电子发射机理
4.1.1动能激发
4.1.2势能激发
4.2 MgO薄膜的二次电子发射性能研究
4.2.1实验测量装置
4.2.2实验测量结果及讨论
参考文献
第5章结论与展望
致谢
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