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第一章 绪论
1.1 光声光谱技术概述
1.1.1 光声光谱技术的发展
1.1.2 光声光谱技术的应用
1.2 半导体纳米材料的光学特性测量
1.2.1 半导体纳米材料的光学特性
1.2.2 半导体纳米材料的谱学分析方法
1.3 本文的选题意义及研究内容
第二章 半导体光声光谱理论
2.1 光与物质的相互作用
2.2 固体光声光谱理论
2.3 半导体能带隙光声光谱理论
第三章 归一化光声光谱实验系统
3.1 归一化光声光谱实验系统组成
3.2 归一化光声光谱实验系统的调试与验证
3.2.1 光路调整
3.2.2 单色仪的校正
3.2.3 实验仪器参数的选取
3.2.4 实验系统的稳定性测试
第四章 半导体材料的光声光谱分析
4.1 半导体材料制备方法
4.2 半导体材料的结构表征方法
4.3 半导体材料的光声光谱检测
4.4 样品的光声光谱及XRD、TEM图结果与讨论
4.4.1 ZnO样品的结果与讨论
4.4.2 TiO2样品的结果与讨论
4.4.3 Pb3O4样品的结果与讨论
第五章 全文总结与展望
5.1 全文总结
5.2 展望
参考文献
致 谢