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第一章 绪 论
1.1 引言
1.2 六价铬溶液镀铬的工艺缺陷
1.3 三价铬溶液镀铬工艺的特点
1.3.1 三价铬溶液电沉积铬的原理
1.3.2 三价铬溶液镀铬工艺的优点
1.3.3 三价铬溶液镀铬工艺工业化生产的技术难点
1.3.4 三价铬溶液镀铬工艺中镀层不能连续增厚的原因
1.4 三价铬溶液镀铬工艺的研究现状与发展方向
1.4.1 国外的研究现状与发展方向
1.4.2 国内的研究现状与发展方向
1.5 现有三价铬溶液镀铬的溶液体系比较
1.6 本课题研究的意义和主要内容
1.6.1 本课题的研究意义
1.6.2 本课题研究的主要内容
1.6.3 本课题的研究目标
第二章 辅助配位剂对三价铬硫酸盐溶液镀铬的影响
2.1 试验仪器及药品
2.1.1 试验仪器及设备
2.1.2 试验药品
2.2 试验方法及试验装置
2.2.1 三价铬镀铬工艺流程
2.2.2 电镀实验装置
2.2.3 赫尔槽电解试验及试片外观的判断
2.2.4 方槽直接电镀试验
2.2.5 镀层厚度的测定
2.3 基础镀液的电镀实验
2.3.1 赫尔槽试验
2.3.2 方槽直接电镀试验
2.4 辅助配位剂对铬镀层的影响
2.4.1 辅助配位剂乙酸的影响
2.4.2 辅助配位剂甘氨酸的影响
2.4.3 辅助配位剂柠檬酸钠的影响
2.4.4 辅助配位剂草酸钠的影响
2.4.5 辅助配位剂苹果酸的影响
2.4.6 各种辅助配位剂的综合比较
2.5 辅助缓冲剂对铬镀层的影响
2.6 添加剂对铬镀层的影响
2.6.1 添加剂对镀层覆盖能力和外观的影响
2.6.2 添加剂对镀层厚度的影响
2.7 电解工艺对铬镀层的影响
2.8 阴极保护法对铬镀层的影响
2.8.1 阴极保护法的概念
2.8.2 屏蔽方式对铬镀层的影响
2.8.3 电解时间对铬镀层的影响
2.9 本章小结
第三章 三价铬硫酸盐溶液快速镀装饰性铬的研究
3.1 引言
3.2 试验仪器及药品
3.3 镀液组分的正交实验
3.4 镀液组分的单因素实验
3.4.1 Cr(Ⅲ)离子浓度的影响。
3.4.2 Cr(Ⅲ)与MF摩尔比的影响
3.4.3 主配位剂的影响
3.4.4 配位剂甘氨酸的影响
3.4.5 硼酸浓度的影响
3.4.6 导电盐浓度的影响
3.4.7 pH的影响
3.4.8 电流密度对镀层质量的影响
3.4.9 温度对镀层质量的影响
3.5 在铜片上先镀镍后镀铬
3.5.1 瓦特镍电解液的组成及实验条件
3.5.2 镀镍时间对铬镀层厚度的影响
3.5.3 铬沉积时间对铬镀层厚度的影响
3.6 电流效率的测定
3.7 镀层孔隙率
3.8 镀层结合力
3.9 三价铬硫酸盐溶液快速镀铬的特点
3.10 本章小结
结 论
参考文献
攻读硕士学位期间取得的研究成果
致谢