摘要
第一章 绪论
1.1 课题研究背景及其意义
1.2 刀具涂层的发展概况
1.3 化学气相沉积法制备刀具涂层
1.4 物理气相沉积法制备刀具涂层
1.4.1 传统的物理气相沉积法
1.4.2 高功率脉冲磁控溅射法
1.5 刀具涂层材料的发展
1.5.1 CrN涂层的发展
1.5.2 AlCrN涂层的发展
1.5.3 AlCrSiN涂层的发展
1.6 本课题来源与主要研究内容
1.6.1 课题来源
1.6.2 主要研究内容
第二章 涂层的制备及分析测试方法
2.1 技术路线
2.2 镀膜设备的选择
2.2 实验前的准备
2.2.1 材料选择
2.2.2 镀膜前处理
2.3 涂层结构和成分的表征方法
2.4 涂层的力学性能分析
2.5 CrN的钻削实验
第三章 高功率脉冲磁控溅射制备CrN涂层
3.1 引言
3.2 在不同参数下HIPIMS Cr靶的脉冲电流变化
3.3 不同基体偏压的CrN涂层制备
3.4 结果与讨论
3.5 本章小结
第四章 高功率脉冲磁控溅射制备AlCrN涂层
4.1 引言
4.2 在不同参数下HIPIMS AlCr靶的脉冲电流变化
4.3 不同基体偏压的AlCrN涂层制备
4.4 结果与讨论
4.5 本章小结
第五章 高功率脉冲磁控溅射制备AlCrSiN涂层
5.1 引言
5.2 不同参数下HIPIMS AlCrSiN靶的脉冲电流变化
5.3 不同基体偏压和频率的AlCrSiN涂层制备
5.4 结果与讨论
5.4.1 不同基体偏压对AlCrSiN涂层的影响
5.4.2 不同频率对AlCrSiN涂层的影响
5.5 本章小结
结论与展望
参考文献
攻读硕士期间发表的论文
声明
致谢