摘要
第一章 绪论
1.1 透明导电氧化物的研究背景
1.2 CuAlO2薄膜国内外研究现状
1.3 CuAlO2薄膜的制备方法
1.3.1 真空蒸发法
1.3.2 磁控溅射法
1.3.3 脉冲激沉积光法
1.3.4 化学气相沉积法
1.3.5 溶胶-凝胶法
1.4 CuAlO2的基本结构
1.5 本文的研究内容
第二章 CuAlO2薄膜的制备方法及表征手段
2.1 薄膜的制备
2.1.1 衬底及靶材的清洗
2.1.2 薄膜制备过程
2.1.3 薄膜的退火处理
2.2 CuAlO2薄膜的表征方法
2.2.1 相结构分析
2.2.2 形貌分析
2.2.3 光学性能分析
2.2.4 差示扫描量热分析
第三章 溅射镀膜工艺对薄膜形貌及性能的影晌
3.1 衬底温度的影响
3.1.1 XRD谱的变化
3.1.2 表面形貌的变化
3.2.3 透光性能的变化
3.2 氧氩比的影响
3.2.1 XRD谱的变化
3.2.2 表面形貌的变化
3.2.3 透光性能的变化
3.3 气压的影响
3.3.1 XRD谱的变化
3.3.2 表面形貌的变化
3.3.3 透光性能的变化
3.4 本章小结
第四章 退火工艺对薄膜性能的影响
4.1 退火温度的影响
4.1.1 XRD谱的变化
4.1.2 透光性能的变化
4.2 退火时间的影响
4.2.1 XRD谱的变化
4.2.2 透光性能的变化
4.3 本章小结
第五章 CuAlO2薄膜热稳定性分析
5.1 氧氩比对薄膜热稳定性的影响
5.1.1 DSC曲线
5.1.2 热容
5.2 衬底温度对薄膜热稳定性的影晌
5.2.1 DSC曲线
5.2.2 热容
5.3 退火温度对薄膜热稳定性的影响
5.4 本章小结
全文总结
论文创新点
有待进一步开展的工作
参考文献
攻读硕士学位期间发表的论文
声明
致谢