声明
摘要
第一章 绪论
1.1 引言
1.2 约束刻蚀剂层技术的基本原理以及研究现状
1.2.1 约束刻蚀剂层技术的基本原理
1.2.2 约束刻蚀剂层技术在三维微加工和平坦化上的应用
1.3 铜表面平坦化技术的研究概况
1.3.1 铜表面平坦化的研究背景
1.3.2 化学机械抛光
1.3.3 无磨料化学机械抛光
1.3.4 电化学机械抛光
1.4 光催化剂层的性质及其制备方法
1.4.1 光催化剂层的研究现状
1.4.2 二氧化钛纳米材料的性质及其应用
1.4.3 二氧化钛纳米管阵列的制备
1.5 羟基自由基的性质及产生与检测
1.5.1 羟基自由基的性质
1.5.2 羟基自由基的产生
1.5.3 羟基自由基的检测方法
1.6 本论文的研究目的和设想
参考文献
第二章 实验部分
2.1 主要试剂
2.2 电极
2.2.1 工作电极
2.2.2 辅助电极
2.2.3 参比电极
2.3 实验条件
2.4 实验仪器与设备
参考文献
第三章 基于二氧化钛纳米管阵列的光诱导约束刻蚀体系中羟基自由基的产生与检测
3.1 引言
3.2 基于二氧化钛纳米管的光诱导刻蚀体系的建立
3.2.1 氧化锌纳米棒模板法化学沉积二氧化钛纳米管(棒)
3.2.2 电化学阳极氧化法制备二氧化钛纳米管
3.3 光诱导刻蚀剂羟基自由基浓度的检测
3.3.1 荧光分析法的实验流程
3.3.2 光照后样品的放置时间对荧光分析结果的影响
3.3.3 光照时间对生成羟基自由基的影响
3.3.4 光催化剂层不同制备条件对生成羟基自由基的影响
3.4 羟基自由基扩散距离的初步测定
3.4.1 硫醇自组装单层修饰金电极测定羟基自由基扩散距离的实验原理和实验过程
3.4.2 羟基自由基对金表面自组装硫醇单层的刻蚀
3.5 本章小结
参考文献
第四章 基于二氧化钛纳米管阵列的光诱导约束刻蚀体系在铜表面平坦化的应用
4.1 引言
4.2 光诱导约束刻蚀平坦化铜的基本原理
4.3 光诱导约束刻蚀平坦化铜的实验过程
4.4 光诱导约束刻蚀后铜表面的表征
4.4.1.不同因素对羟基自由基刻蚀铜的影响
4.4.2.光诱导约束刻蚀体系应用于铜表面平坦化
4.5 光诱导约束刻蚀铜的反应机理
4.6 本章小结
参考文献
第五章 基于二氧化钛纳米管阵列的光诱导约束刻蚀体系中铜的光催化沉积
5.1 引言
5.2 光诱导约束刻蚀铜后对二氧化钛纳米管的表征
5.3 光诱导约束刻蚀中二氧化钛纳米管表面铜的生成机制
5.4 二氧化钛纳米管/铜复合电极的光催化还原法制备和性能表征
5.4.1 铜离子在二氧化钛纳米管阵列电极上的光催化还原机理
5.4.2 二氧化钛纳米管/铜复合电极的表面形貌和组成以及光谱表征
5.4.3 二氧化钛纳米管/铜复合电极的光电化学性能表征
5.5 二氧化钛纳米管表面铜沉积的抑制
5.6 本章小结
参考文献
硕士在学期间的科研成果
致谢