声明
摘要
第一章 绪论
1.1 磁学的发展概述
1.2 磁性材料的发展概述
1.3 软磁材料概述
1.3.1 早期软磁材料概述
1.3.2 非晶纳米晶软磁材料概述
1.4 高频用纳米软磁薄膜概述
1.4.1 纳米软磁单层膜
1.4.2 纳米软磁颗粒膜
1.4.3 纳米软磁多层膜
1.5 本文研究目的和内容
参考文献
第二章 磁学基础理论
2.1 静态磁化理论
2.1.1 自发磁化理论
2.1.2 磁各向异性及其能量形式
2.1.3 磁畴和畴壁
2.1.4 技术磁化
2.1.5 交换耦合理论
2.2 动态磁化理论
2.2.1 复磁导率及磁损耗机制
2.2.2 磁矩进动方程
2.2.3 薄膜磁谱的计算
参考文献
第三章 样品的制备与分析测试方法
3.1 薄膜的制备
3.1.1 溅射镀膜法
3.1.2 磁控溅射的原理
3.1.3 实验设备及其构造
3.1.4 实验材料
3.1.5 影响镀膜质量的因素
3.2 薄膜的结构和成分分析
3.2.1 膜厚测量
3.2.2 X射线光电子能谱分析
3.2.3 X射线衍射分析
3.2.4 扫描电镜形貌分析
3.2.5 透射电镜分析和选区电子衍射
3.3 薄膜的电磁学性能分析
3.3.1 电阻率的测量
3.3.2 磁学性能分析
3.3.3 高频性能分析
参考文献
第四章 [FeNi-O/HfO2]n纳米晶多层膜的软磁及高频特性
4.1 引言
4.2 [FeNi-O/HfO2]n纳米晶软磁多层膜的制备
4.3 FeNi-O磁性层厚度对薄膜结构和性能的影响
4.3.1 薄膜的结构分析
4.3.2 磁学和电学性能分析
4.3.3 薄膜的高频磁学性能分析
4.4 HfO2非磁性层厚度对多层膜结构和性能的影响
4.4.1 薄膜的结构和成分分析
4.4.2 薄膜的磁学和电学性能分析
4.4.3 薄膜的高频磁学性能分析
4.5 O2流量比R(O2)对多层膜结构和性能的影响
4.5.1 薄膜的结构分析
4.5.2 薄膜的磁学和电学性能分析
4.5.3 薄膜的高频磁学性能分析
4.6 总厚度对多层膜结构和性能的影响
参考文献
第五章 总结
攻读硕士期间发表的论文
致谢