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1.前言
1.1研究三价铬镀铬的目的和意义
1.2三价铬镀铬研究现状
1.2.1三价铬镀铬的发展
1.2.2三价铬镀铬的工艺特点
1.3本文的研究内容
2.实验部分
2.1实验原理
2.1.1三价铬镀铬的电化学基础
2.1.2镀液的主要成分及其作用
2.2三价铬镀铬的工艺流程
2.2.1工艺流程图
2.2.2前处理
2.2.3镀铬底层—光亮镍
2.2.4铬源的制备
2.2.5镀铬液的配制
2.3三价铬电镀工艺条件优化
2.3.1赫尔槽试验
2.3.2等电流密度实验
2.4镀层性能测试
2.4.1镀层的外观检验
2.4.2镀层厚度检验
2.4.3镀层的耐蚀性检验
2.4.4镀层孔隙率检验
2.4.5镀层的硬度检测
2.4.6镀层附着力检测
2.5镀层的X射线衍射(XRD)分析
2.6镀层的X射线荧光光谱(XRF)分析
2.7原子力显微镜分析
3.结果与讨论
3.1铬源的制备
3.1.1铬酐还原的工艺条件研究
3.1.2铬酐还原机理
3.1.3小结
3.2 电镀溶液组成对铬层性质的影响
3.2.1导电盐组成的确定
3.2.2稀土元素对镀层性能的影响
3.2.3镀铬液配方的优化
3.3 电镀工艺条件对镀层性能的影响
3.3.1单因素实验
3.3.2 工艺优化正交实验
3.3.3工艺条件小结
3.4三价铬镀层物理化学性质表征
3.4.1铬层的元素组成分析
3.4.2铬层的晶粒尺寸分析
3.4.3铬层的晶体结构分析
3.5镀层性能测试
3.5.1外观
3.5.2孔隙率
3.5.3盐雾实验
3.5.4三价铬性能与六价铬性能对比
3.6镀层的性能评价标准
4.结论与展望
4.1结论
4.2展望
致谢
参考文献