Institute of Optoelectronics, Military University of Technology, 2, Kaliskiego Street, 00-908 Warsaw, Pol;
Institute of Physics the Institute of Plasma Physics ASCR, Za Slovankou 3, 182 21 Prague 8, Czech Republic;
Faculty of Nuclear Sciences Ph;
microstructures; photo-etching; EUV;
机译:使用紧凑型台式激光等离子EUV和SXR光源进行极紫外和软X射线成像
机译:紧凑型激光驱动EUV / XUV等离子源的应用
机译:使用激光等离子极紫外光源对聚合物进行微纳米处理
机译:使用配备有EUV光学系统的紧凑型激光等离子体EUV源微型和纳米处理有机聚合物
机译:用于EUV光源的激光等离子体的光谱研究。
机译:使用极端紫外(EUV)辐射和EUV诱导的氮等离子体的聚醚醚酮(PEEK)的物理化学表面改性
机译:台式激光产生的等离子体源通过聚焦EUV辐射烧蚀聚合物