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【24h】

Formation of Location-Controlled Germanium Grains by Excimer Laser

机译:准分子激光形成位置控制的锗晶粒

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摘要

2D location control of germanium (Ge) grains at different process temperature is obtained using the μ-Czochralski technology. Single Ge grains can reach diameter of 5 or even 8 μm at sputtering temperatures of 100 or 550 ℃, respectively. Crystalline structure of single Ge grain is confirmed by electron backscattering diffraction.
机译:使用μ-Czochralski技术可获得在不同工艺温度下锗(Ge)晶粒的二维位置控制。在100或550℃的溅射温度下,单个Ge晶粒的直径分别可以达到5甚至8μm。单Ge晶粒的晶体结构通过电子反向散射衍射确认。

著录项

  • 来源
    《Thin Film Transistors 9 (TFT 9)》|2008年|153-157|共5页
  • 会议地点 Honolulu HI(US)
  • 作者单位

    Delft University of Technology, Feldmannweg 14,2628 CT Delft, the Netherlands;

    Delft University of Technology, Feldmannweg 14,2628 CT Delft, the Netherlands;

    Delft University of Technology, Feldmannweg 14,2628 CT Delft, the Netherlands;

    Delft University of Technology, Feldmannweg 14,2628 CT Delft, the Netherlands;

  • 会议组织
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 表面处理;
  • 关键词

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