School of Materials Science Engineering, Northwestern Ploytechnical University, No. 127 , West Youyi Road, Xi'an Shaanxi, 710072, China;
RF magnetron sputtering; gallium phosphide; infrared; protective; thin film;
机译:使用射频磁控溅射沉积在柔性聚萘二甲酸乙二醇酯基板上的透明掺杂镓的氧化锌导电薄膜的晶体,光学和电学特性
机译:不同射频磁控溅射功率沉积镓和铝的镓和铝共掺杂氧化锌薄膜的物理性质
机译:镓和铝共掺杂氧化锌薄膜在不同射频磁控溅射功率下的物理性质
机译:RF平面磁控溅射沉积在硫化锌上的磷化镓保护红外薄膜
机译:溅射参数对RF磁控溅射沉积ITO膜的影响
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:自制直流磁控溅射沉积deposited掺杂氧化镓(Ga2O3:Eu)薄膜