Department of Microsystem Engineering, Nagoya University, Nagoya, Japan;
机译:用氢氧化钾对Si(110)的不稳定蚀刻-艺术。没有。 033309
机译:氢氧化钾水溶液中ppb级金属杂质对Si {110}和{100}蚀刻的影响
机译:结合氢氧化钾和氢氧化四甲基铵蚀刻进行硅表面纹理化
机译:用氢氧化钾的Si(110)不稳定蚀刻
机译:使用硅的氢氧化钾各向异性刻蚀制造的场发射器件。
机译:氢氧化四甲铵/异丙醇湿法刻蚀对AFM光刻制备的硅纳米线的几何形状和表面粗糙度的影响
机译:嵌套氢氧化钾蚀刻和用于硅基微反应器的保护涂层