【24h】

Unstable Etching Of Si(110)With Potassium Hydroxide

机译:氢氧化钾对Si(110)的蚀刻不稳定

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摘要

We present the experimental data for the morphological evolution of Si(l10) etched with Potassium Hydroxide. The observed results are interpreted using a continuum equation. The results reveal the presence of unstable etching, which leads to the formation of a columnar structure on the surface. The early stage of the formation of this columnar structure can be explained by a linear theory. This instability is caused by anisotropic surface tension.
机译:我们提供了用氢氧化钾蚀刻的Si(l10)的形态演变的实验数据。使用一个连续方程来解释观察到的结果。结果表明存在不稳定的蚀刻,这导致在表面上形成柱状结构。这种柱状结构形成的早期阶段可以用线性理论来解释。这种不稳定性是由各向异性的表面张力引起的。

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