Lab. Physique de la Matiere, UMR CNRS 5511, INSA de Lyon, 7 Av. Capelle, 69621 Villeurbanne Cedex, France;
机译:厚钡铁氧体薄膜用于无源隔离器
机译:磁控溅射在Pt包覆的Si衬底上高取向M型钡铁氧体薄膜的磁和自偏置特性
机译:磁控溅射制备钡铁氧体薄膜的超大矫顽力
机译:基于钡铁氧体溅射膜的无源隔离器的优化
机译:溅射钡铁氧体磁性薄膜的制备与表征
机译:校正:射频溅射法制备尖晶石型锌铁氧体薄膜及其晶体学特征
机译:溅射压力对钡铁氧体薄膜织构和磁性能的影响
机译:化学沉积铁氧体薄膜作为实验共振隔离器中的非往复元件