Nagoya University, Department of Microsystem Engineering, Nagoya, Aichi, 4648603, Japan Mie University, Department of Mechanical Engineering, Tsu, Mie, 5148507, Japan;
机译:脉冲激光沉积在不同衬底温度下制备的氮化钛薄膜的组织和性能
机译:沉积压力对DC-RF-PECVD制备的氢化氮化碳膜微观结构和性能的影响
机译:偏置电压辅助氮化碳靶材PLD制备的a-CN_x薄膜的微观结构和力学性能
机译:基材材料对离子梁辅助沉积制备的碳氮化物膜力学性能和微观结构的影响
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:前驱体C2H2分数对磁控溅射沉积制备的含Si和Ag的非晶碳复合膜的组织和性能的影响
机译:氮化碳靶偏置电压辅助PLD制备的a-CN x薄膜的组织和力学性能
机译:阴极电弧沉积制备非晶态硬碳薄膜的力学性能