Material Science and Engineering, Seoul National University, Seoul 151-742 KOREA;
chemical vapor deposition (CVD); defect; delamination; FIB;
机译:粗糙Si3N4表面上的金刚石碳膜膜分层
机译:界面碳化对多层CR金刚石状碳膜结构和力学性能的影响
机译:含碳原子入射角对类金刚石碳膜结构和性能影响的分子动力学模拟
机译:缺陷对金刚石碳膜膜分层的影响研究
机译:类金刚石碳膜和金刚石膜的生长和特征:原子氢束的作用和电子场发射的研究。
机译:第三粒子对类金刚石碳膜摩擦学行为的影响
机译:用于心血管医疗器械的金刚石状碳和氟化金刚石碳膜