Venture Business Laboratory, Oita University, 700 Dannoharu, Oita 870-1192, Japan;
机译:脉冲激光烧蚀与催化化学气相沉积相结合的新型薄膜制备方法:在制备掺Er氢化非晶硅膜中的应用
机译:脉冲激光沉积法在柔性聚酰亚胺衬底上制备非晶态Bi_(3.95)Er_(0.05)Ti_3O_(12)薄膜的室温性能和介电性能
机译:X射线光电子能谱研究不同衬底温度下脉冲激光沉积合成的氧化无定形氮化碳薄膜的键合特性
机译:通过脉冲激光沉积制备掺杂掺杂镧在无定形和单晶基板上的薄膜薄膜
机译:用于阴极材料应用的单硫化镧薄膜的脉冲激光沉积。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:脉冲激光沉积过程中氧气压力对反铁掺杂镧锆酸锡钛酸钛酸铅薄膜电和介电性能的影响