Fraunhofer Institute for Surface Engineering and Thin Films IST, Braunschweig, Germany;
机译:圆形直流磁控溅射的多尺度蒙特卡洛模拟:磁控管设计对靶冲蚀和膜沉积的影响
机译:具有两个腐蚀区的磁控溅射装置中石墨靶溅射的计算机模拟
机译:DC磁控溅射系统靶侵蚀效果研究的曲线边界粒子细胞仿真
机译:磁控溅射中异常目标侵蚀的三维模型
机译:溅射靶腐蚀及其对长时间直流磁控溅射镀膜的影响
机译:通过磁控溅射技术沉积在锂中子生产靶标上的钛涂层
机译:两区侵蚀磁控溅射装置石墨靶溅射的计算机模拟