CNRS/PHASE, BP 20 - 67037, Strasbourg Cedex 02, France;
机译:用于USJ制造的自旋玻璃源准分子激光掺杂的机理和应用
机译:准分子激光辐照中硅中的超浅结(USJ)的光电子能谱表征
机译:非熔融准分子激光退火在浅p + / n结形成过程中脉冲数对硅中掺杂物活化的影响
机译:通过旋转玻璃源的准分子激光掺杂在硅中的P + / N超浅线(USJ)的制造。
机译:锗硅化物通过选择性沉积原位掺杂的硅锗合金与纳米级CMOS集成电路的超浅p(+)n结接触。
机译:ArF受激准分子激光诱导的光解离制备具有周期性微/纳米吸盘结构的超疏水硅橡胶
机译:非熔融准分子激光处理形成硅超浅结
机译:使用来自掺杂旋涂玻璃源的Zn扩散制备和表征基于Gasb的热光电池