National Yunlin University of Science Technology, 123 University Road, Sec. 3, Douliu, 64002, Taiwan, ROC;
National Yunlin University of Science Technology;
National Yunlin University of Science Technology;
molecular dynamics; cluster; epitaxy; sputtering; surface roughness;
机译:使用分子动力学在Cu(100)表面外延,混合和溅射生长的临界条件
机译:沉积参数和基底表面条件对磁控溅射沉积Cu薄膜的织构,形态和应力的影响
机译:沉积条件和衬底位置对面对靶溅射系统中制备的超导YBa {sub} 2Cu {sub} 3O {sub}δ薄膜性能的影响
机译:Si衬底上Cu簇沉积的外延,混合和溅射的临界条件
机译:溶剂热,声化学和溅射沉积法研究形成Cu(In,Ga)Se2的结构和形态。
机译:反应性磁控溅射外延在单模激光作用下在SiOx / Si(001)衬底上单晶纤锌矿GaN纳米棒的选择性区域生长
机译:倒置圆柱磁控溅射沉积条件对YBa2Cu3O7-δ薄膜的影响及衬底效应
机译:混合溅射沉积Ni-Ti-Cu形状记忆薄膜