SiGe Device Team, High-Speed SoC Research Department, ETRI 161 Gajeong-Dong, Yuseong-Gu, Daejeon, 305-350, KOREA;
机译:SiGe / SiGeC缓冲层上SiGe的低位错密度应变弛豫
机译:基于硅的异质结构场效应晶体管的应力消除SiGe缓冲器
机译:优化的CMP后和Epi清洗后的清洗,可在SiGe应变松弛缓冲液上实现平滑且高质量的外延应变ge生长
机译:通过热驱动的弛豫和CMP工艺制备的高质量应变缓冲SiGe缓冲液
机译:纳米断层扫描技术在坑式Si(001)衬底上生长的SiGe岛中的合金化和应变松弛
机译:在X射线拓扑图研究的低温缓冲层siGe / si异质结构中的第一个弛豫步骤