TECSEN, UMR-6122, CNRS, Universite Paul Cezanne, Aix-Marseille III, F-13397 Marseille cedex 20, FRANCE;
机译:硅中金属杂质的磷扩散吸杂:超越偏析的机理
机译:金刚石锯硅粉中金属杂质的发生状态和溶出机制
机译:夹层和去陷阱机理对硅上氧化Ha /氮化硅叠层电学特性的影响
机译:一门剖功硅金属杂质空腔捕获机制
机译:高纯N型硅中金属杂质对少数载流子寿命的影响。
机译:在Acheson炉中用于生产碳化硅的气体传输机理和杂质行为
机译:层间俘获和去俘获机理对硅上氧化ha /氮化硅叠层电学特性的影响