首页> 外文会议>2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 >熱処理によるシリコン自然酸化膜上のP3HT/PCBM薄膜の膜構造の変化
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熱処理によるシリコン自然酸化膜上のP3HT/PCBM薄膜の膜構造の変化

机译:热处理改变硅天然氧化膜上P3HT / PCBM薄膜的膜结构

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摘要

近年、高い安定性と大面積化が容易なことにより注目されているP3HT/PCBMを用いた有機薄膜太陽電池において、熱処理(アニール)により発電効率の向上が報告されている。これはアニールにより膜構造(特に発電効率に影響を与える電荷移動に深く関連している分子配向や結晶性)が変化したことによるものと考えられる、本研究では、P3HT/PCBM 薄膜を試料として、軟 X 線吸収分光法(NEXAFS)、X線回折(XRD)を用いて、アニール処理による膜構造 (分子配向や結晶性)変化を明らかにすることを目的とした。
机译:近年来,据报道,热处理(退火)提高了使用P3HT / PCBM的有机薄膜太阳能电池的发电效率,由于其高稳定性和易于增加的面积而备受关注。认为这是因为通过退火改变了膜结构(特别是与影响发电效率的电荷转移密切相关的分子取向和结晶性)。这项研究的目的是通过软X射线吸收光谱(NEXAFS)和X射线衍射(XRD)通过退火来澄清薄膜结构的变化(分子取向和结晶度)。

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