シリコン基板表面処理によるCVD酸化膜界面および有機結晶性薄膜の構造制御

机译：通过硅衬底的表面处理控制CVD氧化膜界面和有机晶体薄膜的结构

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
中村雅一; ナカムラマサカズ;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2017
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. オージェ電子-光電子コインシデンス分光によるシリコン単結晶表面および酸化シリコン超薄膜の局所電子状態の研究 [J] . 垣内拓大, 間瀬一彦, 長岡伸一ふえせき . 2014,第7期

机译：用俄歇电子-光电子重合谱研究单晶硅表面和氧化硅超薄膜的局部电子态
2. オージェ電子-光電子コインシデンス分光によるシリコン単結晶表面および酸化シリコン超薄膜の局所電子状態の研究 [J] . 垣内拓大, 間瀬一彦, 長岡伸一ふえせき . 2014,第7期

机译：螺旋电子 - 光电结合光谱法研究硅单晶表面和氧化硅氧化硅超薄膜的局部电子状态
3. ウエット処理シリコン表面水素終端構造のSPMおよびIR分析：シリコンウエハ表面の原子レベル制御 [J] . 高萩隆行クリ-ンテクノロジ-: クリ-ン化技術の専門誌 . 2007,第9期

机译：湿法处理的硅表面氢终止结构的SPM和IR分析：硅晶片表面的原子能级控制
4. Sbを含む結晶性三方晶Mo3VOx複合酸化物の熱処理による斜方晶Mo3VOx構造への結晶構造変化およびプロパンァンモ酸化反応 [C] . 石川理史, 犬飼将槟, 上田渉石油学会年会 . 2019

机译：结晶MO3 VOX结构的晶体结构变化和丙烷氧化反应通过热处理含有SB的结晶三分号MO3 VOX复合氧化物
5. シリコン半導体に於ける高集積度素子分離特性の基板結晶性による制御に関する研究 [D] . 石神, 俊一郎 1995

机译：衬底结晶度控制硅半导体中高集成度器件隔离特性的研究
6. アモルファス,微結晶および多結晶シリコン薄膜の化学気相堆積におけるラジカル反応過程とその制御に関する研究 [O] . Shirafuji Tatsuru 1998

机译：非晶，微晶和多晶硅薄膜化学气相沉积中自由基反应过程及其控制的研究

シリコン基板表面処理によるCVD酸化膜界面および有機結晶性薄膜の構造制御

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅