DuPont Co. Central Research, Wilmington DE, 19880-0400;
Lincoln Laboratory, Massachusetts Institute of Technology, Lexington, MA 024203;
DuPont K. K., NBD-J, Utsunomiya-shi, Japan 321-3231;
DuPont Co., Electronic Technologies, Wilmington DE, 19880;
DuPont;
immersion; second generation fluid; third generation fluid; hydrocarbons; refractive index; absorbance; fluid handling; radiation durability; active recycle; window contamination; particle contamination;
机译:用于超高数值孔径193 nm光刻的无机浸液
机译:用于超高数值孔径193 nm光刻的无机浸液
机译:相移掩膜偏振法:使用相移掩膜监测193 nm高数值孔径的偏振和浸没式光刻
机译:具有第二代浸液体的高折射率浸入光刻,使1.55的数值电磁能够实现32纳米半场的成本效益
机译:用于浸没式光刻的水性和有机液体的折射率和吸收率。
机译:放大和水浸技术的窄带成像:一种案例发现经济高效的方法来诊断绒毛萎缩
机译:高指数浸入式液体可实现32纳米半间距的经济高效的单次曝光光刻
机译:高数值孔径消失性固体浸没显微镜中的渐逝波:禁用光对次表面成像的影响(开放存取,出版商版)。