Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamada-oka, Suita, Osaka, JAPAN 565-0871;
alternative plasmonic material; pulsed laser deposition (PLD); titanium nitride (TiN); aluminum nitride (AlN); zirconium nitride (ZrN); surface plasmon; surface plasmon polatiron; third harmonic of pulsed Nd:YAG laser; X-ray photoelectron microscopy (XPS); X-ray diffraction; spectrophotometry (XRD); asymmetric metal-insulator-metal (MIM) structure;
机译:脉冲激光沉积中的氮背景压力控制氮化镓和氮化铝薄膜的结构和表面形态
机译:脉冲激光沉积中的氮背景压力控制氮化镓和氮化铝薄膜的结构和表面形态
机译:通过直接脉冲Nd:YAG激光氮化钛合成的TiN涂层的微观结构:晶粒尺寸,微应变和晶粒取向的发展
机译:通过脉冲Nd:与氮化钛(锡)和氮化铝(ALN)形成的不对称金属 - 绝缘体 - 金属(MIM)结构
机译:用于植入物的改良氮化钛涂层的脉冲激光沉积工艺。
机译:通过高压和合成混合纳米晶体粉末的高压和高温烧结体系氮化钛(锡)氮化物(Aln)中的复合氮化物纳米陶瓷
机译:通过直接脉冲Nd:YAG激光氮化钛合成的TiN涂层的微观结构:晶粒尺寸,微应变和晶粒取向的发展
机译:脉冲激光沉积氮化钛