机译:ArF光刻胶参数优化,可降低掩模误差
机译:通过在记录层上添加非磁性层来减少[Co / Pd] {sub} n垂直磁性记录介质的介质噪声
机译:通过向记录层添加非磁性层来减少[CO / PD] {Sub} n垂直磁记录介质的中噪声
机译:在光致抗蚀剂中记录全息掩模的降噪
机译:用于记录和分析手机自适应降噪滤波器的方法
机译:使用定向二值掩模在实时荧光检查应用中降低曲线线性结构的噪声
机译:使用无源听力保护器和自适应降噪技术,用于工业噪声中耳声发射的现场记录
机译:全息记录材料研究。报告编号3.硬化明胶全息记录材料