EUV lithography; photoresist; molecular resist; multi-trigger resist; chemical amplification; crosslinking;
机译:EUV抵制NXE3100全场扫描仪的过程性能研究
机译:EUV抵制NXE3100全场扫描仪的过程性能研究
机译:抗蚀剂溶解过程中EUV抗蚀剂图案形成的原位分析
机译:使用ASML NXE3300 EUV扫描仪进行多触发抵抗图案化
机译:砷化镓晶片的表面化学研究在化学放大的抗蚀剂构图过程中进行,并通过荧光进行抗蚀剂研究。
机译:高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性:材料设计策略和绩效结果综述
机译:多触发抗蚀剂:高分辨率EUV光刻的新型合成改进