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【24h】

Imaging of Topologically Protected Elastic Mode in Silica 1D Phononic Crystal via Photoelastic Effect

机译:通过光弹性效应将拓扑保护弹性模式的成像成像在二氧化硅1D声子晶体中的影响

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摘要

We measure the spatial distribution of a topologically protected elastic modes in a silica 1D phononic crystal (PnC) by using the photoelasticity imaging technique. The strong localization of the topological elastic mode at the interface of two-joined PnCs with topologically distinct bandgaps is experimentally demonstrated.
机译:我们使用光弹性成像技术测量二氧化硅1D声子晶体(PNC)中拓扑保护弹性模式的空间分布。通过实验证明,通过拓扑上独特的带隙的双加入PNC界面处的拓扑弹性模式的强烈定位。

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