extreme ultraviolet; EUV; mask; defects; actinic; wafer SEM; mask SEM; imaging;
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:基于相干衍射成像方法聚焦EUV聚焦的EUV显微镜的EUV掩模缺陷评估
机译:使用EUV显微镜进行光化掩模检查:制备用于相缺陷检测的Mirau干涉仪
机译:EUV光化明场掩模显微镜可预测印刷的缺陷图像
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:histobreast血红素瘤和eosin染色乳腺组织的明菲尔德显微镜图像的集合
机译:利用光化学检测和快速模拟研究埋藏EUV掩模缺陷的可印刷性