MISFET; semiconductor storage; interface states; nanotechnology; VLSI; MNOS technology; gate hole injection; erase operation; embedded nonvolatile memory applications; erasing speed; localized interface trap; source side region; 10 ms; 10 mus;
机译:一种新型的SONOS非易失性闪存器件,使用衬底热空穴注入进行写操作和栅极隧穿以进行擦除
机译:一种新型的SONOS非易失性闪存器件,使用衬底热空穴注入进行写操作和栅极隧穿以进行擦除
机译:Pt纳米粒子引起的缺陷和表面覆盖率在确定纳米晶嵌入式非易失性存储器应用中的不对称编程/擦除签名中的影响
机译:一种新颖的MNOS技术,在嵌入式非易失性存储器应用中使用栅极空穴注入进行擦除操作
机译:用于非易失性存储应用的肖特基单元存储技术。
机译:面向高性能非易失性存储器应用的侧面栅极In2O3纳米线铁电FET
机译:内存设备:通过van der Waals异质结构(ADV。Mater。11/2019)对称超快写入和耗尽速度。
机译:mNOs / CCD非易失性模拟存储器