carbon based coatings; DC magnetron sputtering; wear resistance; friction;
机译:直流磁控溅射型负金属离子束沉积制备的Sn掺杂In_2O_3薄膜的表征
机译:高速直流平面磁控反应溅射制备氢化非晶硅的沉积参数和膜性能
机译:直流磁控溅射(DCMS)制备的非晶硅碳(a-Si:C:H)膜的红外和氢流研究
机译:直流磁控溅射制备含金属非晶碳膜(Me-C:H)的沉积与表征
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:前驱体C2H2分数对磁控溅射沉积制备的含Si和Ag的非晶碳复合膜的组织和性能的影响
机译:用DC反应磁控溅射技术制备的Ni0.5Co0.5Fe2O4纳米复合膜特性的影响参数