自由曲面上への高精細電子回路の全印刷製造技術の開発

摘要

電子素材を含む流体（インク）のパターン塗布により電子回路を印刷製造するプリンテッドエレクトロニクス技術は、近年の多くの取り組みにより、配線パターンの高精細化や薄膜トランジスタ（TFT）等の高性能化が著しく進展しつつある。常温常圧でのプロセス性を活かした多様な応用展開が期待される一方、これらの技術を曲面上へのデバイス製造に適用しようとすると、パターン露光やスピンコート等の適用が途端に困難になるなど、平面上へのデバイス製造にはない各種課題が浮上してくる。本研究では、超高精細な電極配線印刷を可能にするスーパーナップ法（Fig.1）[1]、ポリマー半導体の均質製膜を可能にするプッシュコート法[2]、及び曲面フォトマスクの製作が可能な機能性パターン転写法[3]を組み合わせて、単純な貼り合せでは対応できない自由曲面上への高精細電子回路の全印刷製造技術を開発したので報告する。