Plasma polishing; Atomic emission spectroscopy; Fused silica polishing;
机译:利用电感耦合等离子体技术蚀刻熔融石英相位光栅的优化条件
机译:利用电感耦合等离子体技术蚀刻熔融石英相位光栅的优化条件
机译:反应CHF3-Ar等离子体刻蚀过程中熔融石英的表面改性和刻蚀工艺优化
机译:诱导调理气体及其在熔融二氧化硅的非转化等离子体加工过程中的优化
机译:通过将逆流氨气注入感应热等离子体工艺中,合成化学改性的单壁碳纳米管。
机译:先进的缓解技术(AMP)可提高熔融石英光学器件的激光损伤阈值
机译:关于CNC机器控制程序的优化,关于切割过程的动态稳定性和数字生产条件下的最佳治疗方式