机译:通过干法刻蚀技术制造块状和外延锗场致发射体阵列
机译:电镀铜,湿法腐蚀铜和线性扫描伏安法作为研究原子层沉积的Al_2O_3孔隙率的技术的比较
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机译:原子层蚀刻技术在基于SiC的场发射器形成中的应用
机译:用于器件应用的热原子层沉积和热原子层蚀刻
机译:通过化学蚀刻和通过原子层沉积(ALD)沉积二氧化钛薄膜在纳米钛表面上形成微结构和纳米结构
机译:增强原子氧化铝的原子层蚀刻用于紫外线 光学应用