机译:RF磁控溅射技术沉积MOS2薄膜的摩擦学特性
机译:基于射频磁控溅射技术的碲化铋(Bi_2Te_3)和二硫化钼(MoS_2)薄膜的高效热电pn结器件
机译:直流磁控溅射与高功率脉冲磁控溅射工艺在不同惰性气体条件下生长CNX薄膜的比较研究
机译:磁控溅射初始生长阶段MOS2薄膜
机译:磁控溅射薄膜生长过程中的脉冲偏置。
机译:SC0.09Al0.91N和SC0.18A10.82N的外延生长通过磁控溅射对表面声波应用的磁控溅射薄膜
机译:直流磁控溅射与大功率脉冲磁控溅射工艺在不同惰性气体条件下CNX薄膜生长的比较研究