首页> 外文会议>応用物理学会学術講演会 >量子効果の影響を考慮したGaAsSb/InGaAs Double-Gate Tunnel FETの検討
【24h】

量子効果の影響を考慮したGaAsSb/InGaAs Double-Gate Tunnel FETの検討

机译:考虑量子效应效应的盖子/ Ingaas双门隧道FET的检查

获取原文

摘要

量子効果を考慮したシミュレーションによりダブルゲートヘテロTFETの検討を行った。組成比により実効的なバンドギャップを調整することで DD=0.5Vでのオン電流とゲート容量によって ITRS の 2028 年の真性遅延を達成できる可能性を見出した。
机译:考虑量子效应,通过模拟检查双栅异质TFET。通过通过组成比调节有效带隙,已经发现DD = 0.5V的电流和栅极电容可以通过栅极电容来实现,以实现ITR的初始2028内在延迟。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号