首页> 外文会议>日本化学会春季年会講演予稿集 >還元的錯形成による三置換インデニルロジウム(III)錯体の合成とC-H 官能基化反応への応用
【24h】

還元的錯形成による三置換インデニルロジウム(III)錯体の合成とC-H 官能基化反応への応用

机译:通过还原复合物形成合成三次取代的茚基(III)络合物及其在CH官能化反应中的应用

获取原文

摘要

近年、C-H 官能基化反応に対する触媒活性や選択性の向上を目的として、官能基化Cp ロジウム(III)錯体が開発されている。当研究室では、官能基化フルベンと塩化ロジウムとのエタノール中での還元的錯形成により官能基化Cp ロジウム(III)錯体を合成できることを報告した1-2)。
机译:近年来,已经开发了官能化CP铑(III)复合物,以改善CH官能化反应的催化活性和选择性。 在我们的实验室中,据报道,官能化CP铑(III)复合物可以通过乙醇中的乙醇中的还原复杂形成合成,具有官能化的甘油和氯化铑。1-2)。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号