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Cr単一溶媒でのSiC溶液成長における溶質供給源の形状が成長結晶に与える影響

机译:溶质源对CR单溶剂对生长晶体CR单溶剂的影响

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摘要

TSSG法などのSiC 溶液成長法は、高品質なSiC 結晶が得られる方法として知られている[1]。Si-CrやSi-Tiベース溶媒を使用することで、高成長速度、大口径なSiCバルク結晶成長が達成されてきた。一方で我々は、SiCセラミックを用いたSiを含まないCr単一溶媒からのSiC溶液成長法を提案し、育成温度などの育成条件の変化に対する成長結晶への影響を検討している。これまでの報告の溶質供給源は、カーボンるつぼと SiC セラミックであった。本報告ではSiCセラミックの形状を変更し、この供給源の変化に対する成長結晶への影響を検討した。
机译:SiC溶液生长方法如TSSG方法称为获得高质量SiC晶体的方法[1]。通过使用Si-Cr和基于Si-Ti的溶剂,已经实现了高增长率,大直径的SiC散装晶体生长。另一方面,我们提出了一种使用SiC陶瓷的CR单溶剂的SiC溶液生长方法,使用SiC陶瓷,研究生长晶体对生长条件的变化,如显影温度的影响。先前报告的溶质来源是碳坩埚和SiC陶瓷。在本报告中,检查了SiC陶瓷的形状,研究了对该来源变化的生长晶体的影响。

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