シリコン酸化膜を用いたシリコン量子ドット積層構造における構造?電気的特性評価

摘要

単接合型シリコン結晶太陽電池は理論限界効率に近づきつつあり，さらなる高効率化へのアプローチとして，タンデム型太陽電池が検討されている．我々は，その中でも無毒で資源が豊富なシリコンのみを用いたオールシリコンタンデムセルへの応用へ向け，シリコン量子ドット(Si-QD)を利用する研究を行っている．Si-QD は量子サイズ効果によるバンドギャップチューニングが可能であり，トップセル材料として利用可能である．本研究ではパッシベーション効果の高いSiO_x をバリア層に用いてSi-QD 積層構造を作製した．前回，Si-QD 積層構造の構造?光学特性評価および量子サイズ効果の確認を報告したが，電気的特性は未評価であった．今回は構造?電気的特性の評価を行った結果を報告する．